高端光刻机照明系统光瞳整形与校正技术研究
发布时间:2025-05-07 23:49
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高端光刻机照明系统光瞳整形与校正技术研究
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摘要:集成电路是电子信息行业的命脉,光学光刻技术的进步使其发展规律能够一直遵循摩尔定律。光刻机是光学光刻技术的核心设备。随着光刻分辨率的不断提升,先后出现了多种分辨率增强技术,如离轴照明技术等。光刻照明系统作为光刻机的关键单元,它通过对准分子激光器发出光束的空间分布和角谱分布进行调制,为掩模提供曝光成像所需的照明模式与照明光场。离轴照明模式就是由照明系统中的光瞳整形单元实现的。为了实现中国高端光刻机自主研发及产品化,本论文针对浸没式光刻机,开展了光瞳整形及校正技术的研究工作。 随着离轴照明技术的提出,光瞳性能对曝光图像质量和套刻...
关键词:
授予学位:
博士
学科专业:
导师姓名:
学位年度:
2021
语种:
中文
分类号:
TN405.7(微电子学、集成电路(IC))
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