一种使用图形化金刚石衬底提高荧光玻璃发光性能的方法

使用专用的玻璃抛光剂，可提高玻璃的光泽度。 #生活技巧# #居家生活技巧# #家居保养技巧# #玻璃擦亮#

摘要： 本发明涉及激光照明技术领域，具体公开了一种使用图形化金刚石衬底提高荧光玻璃发光性能的方法，包括如下步骤：金刚石衬底预处理：对金刚石衬底的表面抛光处理后进行酸洗和超声清洗；金刚石衬底图形化：对预处理后的金刚石衬底进行光刻、刻蚀处理，在金刚石衬底上形成图形；将荧光粉、玻璃粉、有机溶剂按比例混合得到荧光玻璃混合物浆料；在图形化后的金刚石衬底上旋涂或涂抹荧光玻璃混合物浆料，烧结后得到荧光玻璃薄膜层。本发明采用图形化后的金刚石基板作为器件的衬底，大大提升了荧光体的散热和发光性能，增大荧光玻璃和金刚石接触面积，增强衬底与荧光玻璃间的结...

主分类号：

H01S5/00(2006.01)(半导体激光器)

权利要求：

1.一种使用图形化金刚石衬底提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，包括如下步骤： (1)金刚石衬底预处理：对金刚石衬底的表面抛光处理后进行酸洗和超声清洗； (2)金刚石衬底图形化：对预处理后的金刚石衬底进行光刻、刻蚀处理，在金刚石衬底上形成图形； (3)将荧光粉、玻璃粉、有机溶剂按比例混合得到荧光玻璃混合物浆料；在图形化后的金刚石衬底上旋涂或涂抹荧光玻璃混合物浆料，烧结得到荧光玻璃薄膜层。 2.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(1)中抛光处理工艺包括MP或CMP。 3.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(2)中光刻、刻蚀用掩膜为图形化的光刻胶或在图形化的光刻胶上再沉积一层金属或SiO2、SixNy非光刻胶材料，利用金属剥离工艺形成图形化的金属或SiO2、SixNy层。 4.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(2)中刻蚀工艺处理采用ICP或RIE进行。 5.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(2)中刻蚀在O2、Ar、H2、CF4、SF6、Cl2中的一种或多种气体共同存在的氛围中进行。 6.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(2)中的图案包括但不限于凸球、凹槽、栅格、锥形、金字塔形形状。 7.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(3)中荧光粉、玻璃粉、有机溶剂的质量比为(0.1-30):(0.1-20):(0.1-2)。 8.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(3)中荧光粉为掺稀土石榴石系荧光粉、镁化合物荧光粉、硅酸盐荧光粉、氮化物荧光粉、硫化物荧光粉中的至少一种，所述玻璃粉为硅酸盐玻璃粉、硼酸盐玻璃粉中的至少一种。 9.如权利要求1所述的提高荧光玻璃发光性能的方法，其特征在于，所述步骤(3)还包括烧结前进行烘干处理和/或烧结后进行退火处理，所述烘干温度为100-500℃，烧结温度为300-1500℃，退火温度为200-800℃。 10.一种如权利要求1-9任一项所述的方法制得的荧光玻璃，其特征在于，所述荧光玻璃至下而上包括图形化金刚石衬底和至少一层荧光玻璃薄膜层，所述荧光玻璃薄膜层厚度为15-200μm。

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